Franczy
Változások az Intel litográfiai ütemtervében
Az Intel Corporation nyilvánosságra hozta legfrissebb litográfiai ütemtervét, melyből kiderül, hogy a világ legnagyobb chipgyártójaként nyilvántartott cég csak a korábban tervezettnél jóval később fogja tudni bevezetni a 157 nanométeres hullámhosszú, illetve EUV (Extreme UltraViolet) litográfiai gyártástechnológiáit, melynek hátterében az újgenerációs gyártóeszközök fejlesztésének kapcsán felmerült nehézségek állnak.
A chipgyártó legfrissebb ütemtervéből kiderül, hogy az EUV litográfiai gyártóeszközök 2009 előtt várhatóan nem fognak elkészülni, valamint előreláthatólag a 157 nanométeres litográfiai eszközök sem lesznek készen arra, hogy már 2005-ben bevessék őket a 0,065 mikronos csíkszélességű újgenerációs mikroprocesszorok gyártásában. Magyarul mindez azt jelenti, hogy ebben az évtizedben az Intelnél a korábbi tervekkel ellentétben a 193 nanométeres hullámhosszú, illetve az ennek továbbfejlesztésére épülő litográfiai eljárások jutnak majd a legnagyobb szerephez. Az Intelhez hasonlóan egyébként várhatóan napokon belül a litográfiai eszközök gyártásával foglalkozó cégek is bejelentik majd, hogy korábbi ütemterveik milyen változtatásokon estek át.
Az Intel eddigi litográfiai ütemterveiben az állt, hogy a chipgyártó 2003 második felében a 193 nanométeres hullámhosszú litográfiai eljárások segítségével készíti el 0,09 mikronos csíkszélességgel rendelkező újgenerációs chipjeit, ezt követően pedig 2005-ben, illetve 2007-ben kezdi meg az eleinte 0,065 mikronos, majd 0,045 mikronos csíkszélességű chipjeinek a sorozatgyártását. Az Intel előbbi chipeket 157 nanométeres, az utóbbiakat pedig már EUV litográfiai eljárások segítségével kívánta előállítani.
Peter Silverman, az Intel litográfiai részlegének igazgatója az üggyel kapcsolatban elmondta, hogy a cég idei évre vonatkozó, 0,09 mikronos csíkszélességet érintő terveivel kapcsolatban nincs semmilyen változás, azonban a chipgyártó a korábbi terveivel ellentétben a következő generációs 0,065 mikronos processzorokat nem 157, hanem 193 nanométeres hullámhosszú litográfiai eljárások segítségével fogja előállítani. Silverman ezenkívül utalt arra, hogy jelen pillanatban vajmi kevés esély mutatkozik arra, hogy az EUV gyártóeszközöket már 2007-ben be fogja tudni vetni az Intel.
A chipgyártó legfrissebb ütemtervéből kiderül, hogy az EUV litográfiai gyártóeszközök 2009 előtt várhatóan nem fognak elkészülni, valamint előreláthatólag a 157 nanométeres litográfiai eszközök sem lesznek készen arra, hogy már 2005-ben bevessék őket a 0,065 mikronos csíkszélességű újgenerációs mikroprocesszorok gyártásában. Magyarul mindez azt jelenti, hogy ebben az évtizedben az Intelnél a korábbi tervekkel ellentétben a 193 nanométeres hullámhosszú, illetve az ennek továbbfejlesztésére épülő litográfiai eljárások jutnak majd a legnagyobb szerephez. Az Intelhez hasonlóan egyébként várhatóan napokon belül a litográfiai eszközök gyártásával foglalkozó cégek is bejelentik majd, hogy korábbi ütemterveik milyen változtatásokon estek át.
Az Intel eddigi litográfiai ütemterveiben az állt, hogy a chipgyártó 2003 második felében a 193 nanométeres hullámhosszú litográfiai eljárások segítségével készíti el 0,09 mikronos csíkszélességgel rendelkező újgenerációs chipjeit, ezt követően pedig 2005-ben, illetve 2007-ben kezdi meg az eleinte 0,065 mikronos, majd 0,045 mikronos csíkszélességű chipjeinek a sorozatgyártását. Az Intel előbbi chipeket 157 nanométeres, az utóbbiakat pedig már EUV litográfiai eljárások segítségével kívánta előállítani.
Peter Silverman, az Intel litográfiai részlegének igazgatója az üggyel kapcsolatban elmondta, hogy a cég idei évre vonatkozó, 0,09 mikronos csíkszélességet érintő terveivel kapcsolatban nincs semmilyen változás, azonban a chipgyártó a korábbi terveivel ellentétben a következő generációs 0,065 mikronos processzorokat nem 157, hanem 193 nanométeres hullámhosszú litográfiai eljárások segítségével fogja előállítani. Silverman ezenkívül utalt arra, hogy jelen pillanatban vajmi kevés esély mutatkozik arra, hogy az EUV gyártóeszközöket már 2007-ben be fogja tudni vetni az Intel.