Franczy
Az Intel 2005-ben már 0,065 mikronnál fog járni
Habár a félvezetőgyártó iparban mostanság egyre több panaszt lehet hallani a chipek előállításához felhasznált fotomaszkok túlzottan magas költségeivel kapcsolatban, a világ legnagyobb chipgyártójaként nyilvántartott Intel lényegében könnyedén megengedheti magának, hogy továbbra is saját maga állítsa elő ezen fontos kellékeket.
Az Intel munkatársai bejelentették, hogy a cég laboratóriumaiban nemrégiben megkezdődtek a 0,065 mikronos csíkszélességű processzorok gyártásához szükséges fotomaszkok gyártási munkálatai, és amennyiben minden jól megy, akkor ezek első használható prototípusai már március végére elkészülhetnek, vagyis már ekkortájt megkezdődhetnek a 0,065 mikronos újgenerációs chipek gyártásával kapcsolatos első kísérletek.
Mint ismeretes, a chipgyártó képviselői pár napja jelentették be, hogy a cégnél a legnagyobb rendben folynak a 0,09 mikronos processzorokkal kapcsolatos fejlesztések, melynek eredményeképpen az idei évben a tervezettnél várhatóan valamivel korábban kerülhetnek forgalomba az első ilyen chipek. Az Intel ezen új processzorokat várhatóan 2005-ig egész biztosan gyártani fogja, ugyanis nagyjából ekkortájt esedékes a mindössze 0,065 mikronos csíkszélességgel rendelkező még újabb Intel processzorok bemutatkozása.
Az Intelnél egyébként már az első olyan fotomaszkok is elkészültek, melyek végleges, továbbfejlesztett változatait valamikor 2007 táján már a 0,045-0,032 mikronos csíkszélességű processzorok gyártásához fogják felhasználni. Ezen processzorok már az úgynevezett EUV (Extreme UltraViolet), vagyis extrém ultraibolya litográfiai technológiák segítségével fognak készülni.
Az újgenerációs processzorok, illetve fotomaszkok összetettségét jól szemlélteti, hogy a 0,09 mikronos csíkszélességű chipek gyártásához használatos legújabb, 22-25 rétegű fotomaszkok összes leíró adata mintegy 200 GB-ra tehető, és egyes szakértők szerint ilyen nagyfokú komplexitás mellett egy-egy apró hibát körülbelül olyan nehéz megtalálni, mint egy kosárlabdát egy Kalifornia méretű területen.
Az Intel munkatársai bejelentették, hogy a cég laboratóriumaiban nemrégiben megkezdődtek a 0,065 mikronos csíkszélességű processzorok gyártásához szükséges fotomaszkok gyártási munkálatai, és amennyiben minden jól megy, akkor ezek első használható prototípusai már március végére elkészülhetnek, vagyis már ekkortájt megkezdődhetnek a 0,065 mikronos újgenerációs chipek gyártásával kapcsolatos első kísérletek.
Mint ismeretes, a chipgyártó képviselői pár napja jelentették be, hogy a cégnél a legnagyobb rendben folynak a 0,09 mikronos processzorokkal kapcsolatos fejlesztések, melynek eredményeképpen az idei évben a tervezettnél várhatóan valamivel korábban kerülhetnek forgalomba az első ilyen chipek. Az Intel ezen új processzorokat várhatóan 2005-ig egész biztosan gyártani fogja, ugyanis nagyjából ekkortájt esedékes a mindössze 0,065 mikronos csíkszélességgel rendelkező még újabb Intel processzorok bemutatkozása.
Az Intelnél egyébként már az első olyan fotomaszkok is elkészültek, melyek végleges, továbbfejlesztett változatait valamikor 2007 táján már a 0,045-0,032 mikronos csíkszélességű processzorok gyártásához fogják felhasználni. Ezen processzorok már az úgynevezett EUV (Extreme UltraViolet), vagyis extrém ultraibolya litográfiai technológiák segítségével fognak készülni.
Az újgenerációs processzorok, illetve fotomaszkok összetettségét jól szemlélteti, hogy a 0,09 mikronos csíkszélességű chipek gyártásához használatos legújabb, 22-25 rétegű fotomaszkok összes leíró adata mintegy 200 GB-ra tehető, és egyes szakértők szerint ilyen nagyfokú komplexitás mellett egy-egy apró hibát körülbelül olyan nehéz megtalálni, mint egy kosárlabdát egy Kalifornia méretű területen.