Gyurkity Péter

Gyorsabban érkezhet a 22 és 15 nanométeres csíkszélesség

A tajvani TSMC az elkövetkező öt évben három újabb generációt is bemutatna az alkalmazott gyártástechnológiáknál, a csíkszélesség további leszorítása azonban költséges és kockázatos lehet.

Az Intel jelenleg saját 45 nanométeres gyártástechnológiájával hódít, az AMD pedig mindent megtesz, hogy még most novemberben bemutassa saját megoldásait. A TSMC (és nyilván egyéb vállalatok, így például az AMD-IBM kettős fejlesztőmérnökei) azonban előrébb járnak, és már a következő generáció kidolgozásán munkálkodnak. A tajvani gyártó felvázolta a következő évekre vonatkozó útitervét, ezt azonban még ők is kockázatosnak ítélik.

Azt eddig is tudtuk, hogy a 32 nanométeres generáció (a sorrendben a következő) meglehetősen korán, már jövőre bemutatkozhat (az Intel pedig ezt kihasználva minél előbb piacra szeretné dobni saját új asztali és szerverprocesszorait, hogy tartsa előnyét az AMD-vel szemben). A TSMC agresszív menetrendje azonban 2011-re irányozza elő a 22 nanométeres gyártástechnológia elkészültét, két évre rá pedig már debütálna az újabb nagy mérföldkőnek ítélt 15 nanométeres csíkszélesség. A gyorsításnak persze megvan a maga ára mind a gyártó, mind pedig a reménybeli vásárlók számára.

Elemzők megjegyzik, hogy bár a Moore-törvény továbbra is érvényes, az újabb generációk kifejlesztésénél egyre inkább mérséklődik a várt költségcsökkenés mértéke. A 32 nanométeren készülő chipek széleskörű gyártása még tovább ronthatja ezen mutatókat, a következő állomások elérése még többe kerül majd, az általuk megvalósított költséghatékonyság pedig nem lesz olyan mértékű, mint ahogy azt korábban megszokhatták a gyártó cégek. Az érintett vállalatok ezt némileg ellensúlyozhatják még nagyobb méretű szilíciumostyák alkalmazásával, így például szóba került a 450 mm-es példányok gyártása (jelenleg 300 mm-nél tart a legtöbb gyártó), ez ugyanis a jelenleginél több chip előállítását tenné lehetővé egyetlen ostya felhasználása mellett.

Itt nagy gond lehet, hogy a 300 mm-es példányok "virágzása" egészen 2014-ig eltarthat, ami még veszélyesebbé, még kockázatosabbá teszi a TSMC gyors átállását. Kérdés, hogy megéri-e az óriási ráfordítás, megvalósíthatók-e a remélt előnyök, és hogyan reagál majd a többi gyártó az új technológiák korai megjelenésére.

Hozzászólások

A témához csak regisztrált és bejelentkezett látogatók szólhatnak hozzá!
Bejelentkezéshez klikk ide
(Regisztráció a fórum nyitóoldalán)
  • dez #10
    Grafén - "A mai szilícium-alapú tranzisztoroknál százszor gyorsabb tranzisztorokat építenek hamarosan a világ legerősebb anyagából. Ez a csodálatos anyag a grafén, a mindössze egyetlen atom vastagságú szénréteg." (A csíkszélesség nem tudom, mennyi lesz.) cikk, másik cikk
  • dez #9
    Én az immersion lithographyra gondoltam. A kifejezés szó szerinti fordításából gondoltam, hogy itt merítés van, de most látom, hogy nincs az egész cókmók vízbe merítve: http://en.wikipedia.org/wiki/Immersion_lithography

    "As of 2007, many companies, including IBM, UMC, Toshiba, and TI are ramping for the 45 nm node using immersion lithography. AMD's Fab 36 is already equipped for using immersion lithography for its 65 nm, 45 nm and 32 nm node technologies.[6] AMD has also made preparations for advanced design for manufacturability (DFM), including layout regularity and double patterning at the 22 nm node, using immersion lithography.[7] For the 32 nm node in 2009, Intel will begin using immersion lithography as well."
  • A1274815 #8
    "Engem nagyon érdekel, hogy mik lesznek 15 nm után, mert az alatt már csak atomokat találunk."

    7nm aztán kész elértük a limitet.
  • waterman #7
    máris vízbe mártva csinálják? nem azért nagy szó, hogy 22 nanós dramot demóztak, mert valahogy sikerült kitolniuk a sima levilágításos technika határait vízbe mártogatás nélkül? de ha lemaradtam valamiről, akkor sorry:)
  • Frayer #6
    Engem nagyon érdekel, hogy mik lesznek 15 nm után, mert az alatt már csak atomokat találunk.
    Milyen teknológiák felé fognak haladni.
    Nagyon örülnék ha elkezdenének gondolkodni a fotonikus chipeken, amiben nem az elektron hanem a foton lenne mint jelvivő. Gondolom egy ilyen fotonikus chip alig alig fogyasztana, nem melegedne, és olyan gyors lenne mint a gondolat. Remélem.
  • dez #5
    frafén = grafén
  • dez #4
    Talán meglep, de az Intel már most alkalmazza a 45nm-eseknél.
    De lehet, hogy csak azért, mert enélkül nem jött össze nekik a 45nm.
    (Az AMD, IBM, TSCM, stb. itt még a sima szilíciumot alkalmazza, de vízbe merített levilágítással.)
    15nm alatt a metal gate sem lesz már jó. Ekkor jönnek majd a több tranzisztor-szintes chipek, illetve a frafén alapú megoldások.
  • passatgt #3
    gondolom ők erre nem gondoltak
  • kvp #2
    Metal gate tranzisztorok... hordozonak jo a szilicium, kapcsoloretegnek pedig a fem oxidok. Az elso ilyen diodakat meg rozsdas vasbol csinaltak, grafit erintkezokkel. (a II. vilaghaboru alatt) Nem uj dolog, csak sokkal dragabb mint a sima szennyezett szilicium.
  • torcipepe #1
    15nm alatt a sziliciumot már kidobhatják, hacsak nem találnak ki valami merőben eltérő technológiát.