A Rochester Institute of Technology kutatói kidolgoztak egy olyan új eljárást, melynek segítségével a jelenlegi chipgyártási eszközök használata mellett minden korábbinál kisebb csíkszélességű mikroprocesszorok állíthatók elő.

Az eljárás sikerének kulcsa nem más, mint a Föld egyik legnagyobb mennyiségben elérhető alapanyaga, a víz. Bruce Smith, a rochesteri (New York) intézet mikroelektronikai professzora elmondta, hogy amennyiben a chipek áramköri vezetékeinek kialakításakor kis vízsugarakat bocsátanak a szilíciumszeletekre, akkor akár a jelenlegi litográfiai eszközök használatával is elérhető a 0,045 mikronos, vagyis 45 nanométeres csíkszélesség.

Mint ismeretes, a chipgyártók litográfiai berendezések segítségével alakítják ki a szilíciumszeleteken az áramköri rajzokat. A jelenleg használatos litográfiai eszközök 193 nanométeres hullámhosszú fényt használnak és segítségükkel 0,09 mikronos, vagyis 90 nanométeres csíkszélességű processzorok gyárthatók. A jelenleg forgalomban lévő processzorok közül többek közt az Intel Prescott magos Pentium 4 chipjei rendelkeznek 0,09 mikronos csíkszélességgel.

Smith elmondta, hogy a mikroszkópok esetében már több mint száz éve használnak különböző folyadékokat a felbontás növelése érdekében, és mivel a litográfia tulajdonképpen a mikroszkóp megoldás fordítottja, esetében ugyancsak érdemes folyadékokat használni. Míg a mikroszkóp kis objektumokat nagyít fel, addig a litográfiai eszközök nagy rajzokat kicsinyítenek le. Mivel a litográfiai eljárások nagy tisztaságot igényelnek, a gyártók mindeddig nem alkalmaztak folyadékokat, most azonban sikerült megoldani az eddigiekben tapasztalt problémákat. A kutatók azért választották a vizet, mert a víz nem lép reakcióba egyetlen, a chipgyártás közben használatos anyaggal sem, és mert fénytörési tulajdonságai ideálisnak nevezhetők.

A kísérletek tovább folytatódnak, így egyelőre nem lehet tudni, hogy a víz alapú litográfiai eszközök használata mikor terjed el a chipgyártók körében.