Spencer
Az Nvidia a TSMC 0,11 mikronos technológiáit választja
A világ egyik legnagyobb grafikus processzor fejlesztő cégeként nyilvántartott Nvidia Corporation bejelentette, hogy a közeljövőben használatba kívánja venni a TSMC (Taiwan Semiconductor Manufacturing Company) legújabb, immár 0,11 mikronos, vagyis 110 nanométeres csíkszélességet biztosító gyártási technológiáját.
A bejelentés kapcsán szó esett többek közt arról, hogy az új eljárásnak köszönhetően a Santa Clara-i (Kalifornia) vállalat tizenkét hónapon belül vadonatúj, minden korábbinál komplexebb, nagy teljesítményű és nem utolsó sorban alacsony fogyasztású és hőtermelésű grafikuschippel jelenhet meg a piacon.
A piacvezető szerződéses chipgyártó cégként jegyzett TSMC 0,11 mikronos gyártási eljárása a jelenleg használatos 0,13 mikronos technológia fotólitográfiailag zsugorított, jelentős mértékben továbbfejlesztett változata. Az eljárást a TSMC partnerei két különböző változatban vehetik igénybe. Létezik egy fejlettebb, high-end kategóriás kivitel, valamint egy általánosabb felhasználásra szánt, FSG-alapú dielektrikumra épülő változat. Tudni lehet, hogy a fejlettebb 0,11 mikronos gyártási eljárás tranzisztor szintű fejlesztéseket is tartalmaz, ami a korábbiaknál jelentősen nagyobb működési frekvenciát, illetve alacsonyabb fogyasztást eredményez.
A tajvani székhelyű TSMC 2002-ben kezdte meg a 0,11 mikronos technológiai fejlesztéseket és nemrégiben meg is kezdődtek az első próbagyártások. Elmondások szerint a vállalat új technológiájának kihozatali aránya egyre jobban alakul és amennyiben minden jól megy, akkor a 0,11 mikronos általános felhasználási célú eljárást valamikor 2005 elején kezdik majd felhasználni a tömeggyártásban.
A cikk elején említett Nvidiához hasonlóan a másik nagy grafikuschip fejlesztő cég, a kanadai ATI Technologies is komoly 0,11 mikronos tervekkel rendelkezik, és mihamarabb szeretné végrehajtani az erre az új technológiára történő átállást. Különböző források tudni vélik, hogy az Nvidia az NV50, az ATI Technologies pedig az R500 esetében fog áttérni a vékonyabb csíkszélességre, valamikor a jövő esztendőben.
A bejelentés kapcsán szó esett többek közt arról, hogy az új eljárásnak köszönhetően a Santa Clara-i (Kalifornia) vállalat tizenkét hónapon belül vadonatúj, minden korábbinál komplexebb, nagy teljesítményű és nem utolsó sorban alacsony fogyasztású és hőtermelésű grafikuschippel jelenhet meg a piacon.
A piacvezető szerződéses chipgyártó cégként jegyzett TSMC 0,11 mikronos gyártási eljárása a jelenleg használatos 0,13 mikronos technológia fotólitográfiailag zsugorított, jelentős mértékben továbbfejlesztett változata. Az eljárást a TSMC partnerei két különböző változatban vehetik igénybe. Létezik egy fejlettebb, high-end kategóriás kivitel, valamint egy általánosabb felhasználásra szánt, FSG-alapú dielektrikumra épülő változat. Tudni lehet, hogy a fejlettebb 0,11 mikronos gyártási eljárás tranzisztor szintű fejlesztéseket is tartalmaz, ami a korábbiaknál jelentősen nagyobb működési frekvenciát, illetve alacsonyabb fogyasztást eredményez.
A tajvani székhelyű TSMC 2002-ben kezdte meg a 0,11 mikronos technológiai fejlesztéseket és nemrégiben meg is kezdődtek az első próbagyártások. Elmondások szerint a vállalat új technológiájának kihozatali aránya egyre jobban alakul és amennyiben minden jól megy, akkor a 0,11 mikronos általános felhasználási célú eljárást valamikor 2005 elején kezdik majd felhasználni a tömeggyártásban.
A cikk elején említett Nvidiához hasonlóan a másik nagy grafikuschip fejlesztő cég, a kanadai ATI Technologies is komoly 0,11 mikronos tervekkel rendelkezik, és mihamarabb szeretné végrehajtani az erre az új technológiára történő átállást. Különböző források tudni vélik, hogy az Nvidia az NV50, az ATI Technologies pedig az R500 esetében fog áttérni a vékonyabb csíkszélességre, valamikor a jövő esztendőben.