Franczy

Az Intel EUV gyártóeszközöket rendelt

Az Intel a napokban megrendelte egy olyan új eszköz prototípusát, mely a cég képviselőinek elmondása szerint sokat segít majd az Intelnek abban, hogy a processzorok fejlődését jelen pillanatban gátló tényezőket kiküszöbölje, és mihamarabb minden eddiginél magasabb frekvenciájú, nagy teljesítményű chipeket dobjon piacra. Ez az új eszköz az úgynevezett EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) technológia révén minden korábbinál kisebb áramköri elemeket lesz képes készíteni, vagyis segítségével a jelenleginél is sokkal több tranzisztor lesz bezsúfolható a processzorok magjába. A növekvő tranzisztorszám nagyobb teljesítményt eredményez majd, ezenkívül pedig mindenképpen említésre méltó, hogy az új eszköz segítségével előállítandó Intel processzorok frekvenciája akár a 10 GHz-et is meghaladhatja majd, miközben az Intel jelenlegi csúcsprocesszora még "csak" 2,4 GHz-es frekvencián ketyeg.

Az EUV technológiák használatba vétele lehetővé teszi, hogy tartani tudjuk magunkat a Moore törvényhez - nyilatkozta az üggyel kapcsolatban Peter Silverman, az Intel litográfiai fejlesztésekkel foglalkozó részlegének az igazgatója. Mint az ismeretes, az elhíresült Moore törvényt az Intel egyik alapítója, Gordon Moore fogalmazta meg, és az áll benne, hogy a chipekben található tranzisztorok száma átlagosan 18-24 hónaponként duplájára növekszik. Az elmúlt időkben egyébként egyes szakértők már megkongatták a vészharangot, mondván, hogy a chipgyártók hamarosan különböző fizikai korlátokba ütköznek majd, vagyis azt mondták, hogy Moore törvénye hamarosan érvényét fogja veszíteni. Ezzel szemben az Intel most azt állítja, hogy az újgenerációs EUV technológia a közeljövőben mindenképpen garantálni fogja a chipgyártás folyamatos és töretlen fejlődését.

Az Intel által használni kívánt EUV egy olyan újfajta litográfiai eljárás, mely a jelenleg széles körben használatos fotolitográfiai eljárásoktól elsősorban abban különbözik, hogy az áramköri minták előállításához használt fény hullámhossza jelentősen rövidebb, ennek köszönhetően pedig az EUV technológia révén kisebb csíkszélesség érhető el. Az EUV eszközök esetében egy rendkívül kifinomult és bonyolult lencserendszer végzi a készítendő áramköri rajz összezsugorítását, mely feladatra a jelenlegi litográfiai eszközökben használatos lencsék torzításuk miatt már nem alkalmasak. Az első EUV eszköz prototípusát egyébként tavaly mutatták be, az Intel pedig 2005-től kíván ilyen eszközöket használni.

Hozzászólások

A témához csak regisztrált és bejelentkezett látogatók szólhatnak hozzá!
Bejelentkezéshez klikk ide
(Regisztráció a fórum nyitóoldalán)
Nem érkezett még hozzászólás. Legyél Te az első!