Új félvezetővel kísérletezik a Samsung

Egy most előállított vegyület nyithatja meg az utat az áttöréshez, amely több előnyt kínál.

A Samsung háza táján az elmúlt héten egyszerre több hír is megjelent, itt szó esett többek között a fejlesztés alatt álló új hajlítható okostelefonról, amely valamikor szeptemberben jelenhet csak meg, viszont eközben egy másik divízió a félvezetők terén igyekszik nagy áttörést elérni, mégpedig egy most megtalált vegyület alkalmazásával.

A hivatalos bejelentésben arról olvashatunk, hogy a dél-koreai vállalat mérnökei az amorf bór-nitrid felhasználásában látják a megoldást, itt ugyanis a Samsung Advanced Institute of Technology (SAIT), az Ulsan National Institute of Science and Technology (UNIST), illetve a Cambridge Egyetem szakemberei közösen dolgoztak ennek kialakításán, reményeik szerint pedig ez belátható időn belül elvezethet a félvezetők teljesen új generációjának felbukkanásához. A magyarázat szerint a bór és a nitrogén atomokat amorf molekula struktúrában helyezik el, és bár ehhez hozzáteszik, hogy az új anyag tulajdonképpen a fehér grafénból ered, az eltérő struktúra miatt alapvetően különbözik attól, ezzel pedig több előnyre is szert tehetünk, már amennyiben megvalósul a szélesebb körű alkalmazás.

Az a-BN által kínált egyik legfontosabb potenciális előrelépés a viszonylag alacsony hőmérsékleten való előállítás lenne, itt ugyanis az eddig elvégzett kísérletek alapján alig 400 Celsius-fokon elérhető a megfelelő ütemű növekedés, ezzel pedig az ostyaméretű példányok legyártása. Itt ráadásul az elektromos interferencia is minimalizálható, ezzel pedig az új anyag ideális jelöltnek tűnik a jövőbeni DRAM- és NAND-megoldások terén való alkalmazáshoz, bár itt ez alatt nyilván a nagyobb méretű szervereket értik, hiszen a következő generációs termékek először ezen méretes megoldások szegmensében bukkannának fel, hogy azután idővel leszivárogjanak a felhasználói készülékek szintjére.

Arról egyelőre nem esett szó, hogy a Samsung emberei szerint mikor jelenhetnek meg legkorábban az említett fejlesztések, itt ehhez először további komoly, házon belüli munkára lesz szükség.

Hozzászólások

A témához csak regisztrált és bejelentkezett látogatók szólhatnak hozzá!
Bejelentkezéshez klikk ide
(Regisztráció a fórum nyitóoldalán)
  • VolJin #4
    Pont alkalmas arra, hogy a sejtekbe jutva elvágja a DNS-t így kurva erős rákkeltő, ezért úrliftet azt nem fognak belőle csinálni...
  • felemelő #3
    Értelmes mennyiségben... és árban.

    Ha ez megjön, onnan nagy technologiai robbanás várható.
  • gombabácsi #2
    grafénnel brutálisan szenzációs dolgok állíthatók elő! sorolni is lehetetlen hogy mennyi elképzelhetetlen technikai dolog lehetséges vele az űrlifttől elkezdve a brutálisan nagy kapacitású akkuig.
    már csak grafént kéne tudni előállítani értelmes mennyiségben :D
  • Tank84 #1
    Jah, a grafént is 10 éve hipolták, azt nem lett belőle semmi. Oh Moore, de igazad volt.