Az Intel Corp. azt tervezi, hogy különféle technológiákat talál ki, amely jobban illik a célzott piac PC mikroprocesszor üzletének energia és teljesítmény igényeihez. Egy időben adja ki az Intel a chipet a fejlesztési csapatoknak, hogy jóval szorosabban együtt dolgozva bírkózzanak meg a legnagyobb energiafelvételi problémákkal. A jövőben az Intel valószínűleg nem egy, hanem több processzor gyártási technológiát fog használni - a litográfiai vonalszélesség meghatározásával - hogy megerősítse a nem PC termékek portfólióját, amely már most jelen van a digitális jelprocesszorokban, a StrongARM beágyazva a RISC magba és flash memóriába, mondta Mark Bohr, az Intel társa és a gyártási és integrációs technológia igazgatója a cég portlandi Technology Development Center-ének Hillsboro-ban. Az Intel általában fejleszt egy maggyártási technológiát a Hillsboro központban és utána átküldi a cég előállítási gyáraiba. Néhány esetben a gyártást megpiszkálja a tervező csapat a cég központjában, Santa Clara-ban, mondja el Bohr. Az Intel jelenleg 0.18 mikronos technológiát használ, amely a mostani gyártási csúcstechnológia, és tervezi a 0.13 mikronra való átállást a következő évben. Ez a gyártási technológia, amelyet most ősszel szeretnének felfedni, 0.07 mikronos tranzisztor kapuhosszal fog dolgozni. Bohr nem kommentálja a technológia gyökerét - vajon a 0.10 mikron, 0.07 mikron vagy finomabb -, hogy melyiket fogja az Intel elkezdeni a különböző gyártási technológiák bevezetésével.