CW Számítástechnika
Az Intel jól halad új gyártástechnológiájával
Az Intelnél a várakozásoknál lényegesen jobban halad a 65 nanométeres csíkszélességű alkatrészek gyártására szolgáló technológia fejlesztése.
Amennyiben a piaci igények úgy indokolják, a chipgyártó vállalat akár már az év vége előtt megkezdheti 65 nanométer csíkszélességű processzorainak szállítását. A pletykák a kétmagos Presler, Cedar Mill és Yonah lapkák megjelenésének időpontjáról szólnak, amelyet eredetileg 2006-ra várt a szakma. Amint arról beszámoltunk, a Presler és a Cedar Mill asztali gépek számára készülnek, míg a Yonah lesz az Intel első kétmagos mobil processzora.
Utóbbinak érdekessége egyébként, hogy az energiatakarékosság jegyében az egyik magja teljesen kikapcsolható, ha nincs rá szükség. Természetesen nem kizárt, hogy ezt a képességet az asztali processzorok esetében is bevezeti az Intel, mivel ebben a szegmensben is egyre nagyobb figyelmet kap a magas hőtermelés és a fogyasztás.
A vállalat 2003 novemberében jelentette be, hogy megkezdte a 65 nanométeres gyártástechnológia tesztelését és hibátlanul működő SRAM chipeket gyártott. Az új technológia bevezetési ütemének felgyorsulására utalhat az Intel legutóbbi, negyedévközi elemzői tájékoztatójában elejtett félmondat, amely kinyilvánítja, hogy a 65 nanométerre történő átállással kapcsolatos költségek alacsonyabbak a vártnál.
Az Intel által fejlesztett 65 nanométeres félvezetőgyártási technológia többek között magában foglal a korábbinál nagyobb teljesítményű és alacsonyabb fogyasztású tranzisztorokat, második generációs feszített szilíciumot, nagy sebességű rézalapú átkötéseket és kis k-együtthatójú dielektrikummal történő szigetelési technológiát. Az eljárás nyolcrétegű félvezető alkatrészek előállítását teszi lehetővé 300 milliméter átmérőjű szilíciumszeleteken.
Az új technológiával gyártott tranzisztorok kapuhossza mindössze 35 nanométer. Az Intel állítása szerint 2005-ben ezek lesznek a legkisebb és legnagyobb teljesítményű tranzisztorok, amelyeket sorozatgyártásban alkalmaznak. A jelenlegi tömegtermelésben alkalmazott legfejlettebb, 90 nanométeres Intel-technológia segítségével 50 nanométeres kapuhossz érhető el. A 130 nanométeres csíkszélességű Pentium 4 Northwood processzort felépítő tranzisztorok kapuhossza 60 nanométer.
Amennyiben a piaci igények úgy indokolják, a chipgyártó vállalat akár már az év vége előtt megkezdheti 65 nanométer csíkszélességű processzorainak szállítását. A pletykák a kétmagos Presler, Cedar Mill és Yonah lapkák megjelenésének időpontjáról szólnak, amelyet eredetileg 2006-ra várt a szakma. Amint arról beszámoltunk, a Presler és a Cedar Mill asztali gépek számára készülnek, míg a Yonah lesz az Intel első kétmagos mobil processzora.
Utóbbinak érdekessége egyébként, hogy az energiatakarékosság jegyében az egyik magja teljesen kikapcsolható, ha nincs rá szükség. Természetesen nem kizárt, hogy ezt a képességet az asztali processzorok esetében is bevezeti az Intel, mivel ebben a szegmensben is egyre nagyobb figyelmet kap a magas hőtermelés és a fogyasztás.
A vállalat 2003 novemberében jelentette be, hogy megkezdte a 65 nanométeres gyártástechnológia tesztelését és hibátlanul működő SRAM chipeket gyártott. Az új technológia bevezetési ütemének felgyorsulására utalhat az Intel legutóbbi, negyedévközi elemzői tájékoztatójában elejtett félmondat, amely kinyilvánítja, hogy a 65 nanométerre történő átállással kapcsolatos költségek alacsonyabbak a vártnál.
Az Intel által fejlesztett 65 nanométeres félvezetőgyártási technológia többek között magában foglal a korábbinál nagyobb teljesítményű és alacsonyabb fogyasztású tranzisztorokat, második generációs feszített szilíciumot, nagy sebességű rézalapú átkötéseket és kis k-együtthatójú dielektrikummal történő szigetelési technológiát. Az eljárás nyolcrétegű félvezető alkatrészek előállítását teszi lehetővé 300 milliméter átmérőjű szilíciumszeleteken.
Az új technológiával gyártott tranzisztorok kapuhossza mindössze 35 nanométer. Az Intel állítása szerint 2005-ben ezek lesznek a legkisebb és legnagyobb teljesítményű tranzisztorok, amelyeket sorozatgyártásban alkalmaznak. A jelenlegi tömegtermelésben alkalmazott legfejlettebb, 90 nanométeres Intel-technológia segítségével 50 nanométeres kapuhossz érhető el. A 130 nanométeres csíkszélességű Pentium 4 Northwood processzort felépítő tranzisztorok kapuhossza 60 nanométer.