Spencer

Túlzottan kockázatos az Intel chipgyártási roadmap módosítása

Az Intel legutóbbi chipgyártási ütemterv módosítása szakmai körökben nagy visszhangot keltett, és egyes szakértők komoly nemtetszésüknek adtak hangot.

Ahogy arról korábban beszámoltunk, Peter Silverman, az Intel litográfiai fejlesztésekkel foglalkozó részlegének igazgatója bejelentette: a 45 nanométeres, vagyis 0,045 mikronos csíkszélességgel rendelkező jövőbeli Intel processzorokat a korábbi tervekkel ellentétben nem 157 nanométeres, hanem argon-fluorid (ArF) alapú 193 nanométer hullámhosszú gyártóeszközök segítségével fogják gyártani. Silverman akkor elmondta, hogy a 0,032 mikronos csíkszélességű mikroprocesszorokat várhatóan már a legfejlettebb EUV (Extreme Ultraviolet - távoli ultraibolya) technológiák segítségével fogja előállítani az Intel, noha ezzel kapcsolatban biztosat egyelőre nem lehet tudni.

Az Intel döntését kritizálók elsősorban azt kifogásolják, hogy a világ legnagyobb chipgyártó cége a 157 nanométeres chipgyártási megoldások kifejlesztése kapcsán az elmúlt időkben nagy nyomást gyakorolt az iparra, most pedig lényegében gondolt egyet, és elvetette a 157 nanométeres gyártóeszközök használatának ötletét. Az ebben a piaci szegmensben érdekelt egyes vállalatok vezetői úgy vélekednek, hogy az Intel kihátrálása lényegében a 157 nanométeres gyártóeszköz generáció halálát jelenti, valamint, hogy az Intel ezen döntés meghozatalával túlzottan nagy kockázatot vállalt.

Allen Bowling, a Texas Instruments egyik vezetője az üggyel kapcsolatban elmondta, hogy tulajdonképpen érthető, hogy az Intel a 193 nanométeres litográfiai eszközök élettartamát meg kívánja hosszabbítani, és a chipgyártó még a 2007-ben debütáló 0,045 mikronos csíkszélességű processzorokat is ilyen berendezésekkel kívánja gyártani. Bowling szerint azonban vajmi kevés esély mutatkozik arra, hogy az Intel a 0,032 mikronos csíkszélességű mikroprocesszorokat 2009-ben már EUV technológiák segítségével fogja gyártani, ugyanis meglátása szerint 2009-re még nem fognak befejeződni az EUV fejlesztések. Úgy gondolom, hogy az EUV megoldásokat legkorábban 2011-ben, vagy esetleg még később lehet majd először bevetni a gyakorlatban - nyilatkozta Bowling.

Hozzászólások

A témához csak regisztrált és bejelentkezett látogatók szólhatnak hozzá!
Bejelentkezéshez klikk ide
(Regisztráció a fórum nyitóoldalán)