SG.hu·
A Zeiss bővítése feloldhatja az ASML gyártásának szűk keresztmetszetét
Az oberkocheni bővítés célja, hogy növelje az ASML számára készülő optikai rendszerek gyártási kapacitását, amely jelenleg meghatározza a világ legfejlettebb litográfiai berendezéseinek kibocsátását.
A Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology megerősítette, hogy mintegy 25 000 négyzetméternyi új gyártóterülettel és a termelést kiszolgáló létesítménnyel bővíti oberkocheni telephelyét Németországban. A dolgozók ebben a hónapban költöztek be az első elkészült épületbe, négy évvel azután, hogy 2022-ben megkezdődött a beruházás. A fennmaradó épületeket fokozatosan adják át. Oberkochen és Wetzlar azon két hely egyike a világon, ahol elkészülhetnek az ASML litográfiai berendezéseiben használt optikai eszközök, az ASML éves jelentése pedig egyértelműen kimondja, hogy a vállalat által gyártható rendszerek számát jelenleg a Zeiss SMT termelési kapacitása korlátozza. Az ASML a hónap elején arról tájékoztatta befektetőit, hogy 2027-ben nagyjából 30 százalékkal kívánja növelni a Low-NA EUV rendszerek gyártását.
Az ASML 2025-ös éves jelentése szerint a Carl Zeiss SMT a vállalat kizárólagos beszállítója a lencséknek, tükröknek, megvilágító rendszereknek, kollektoroknak és más kulcsfontosságú optikai alkatrészeknek. Az együttműködés kizárólagos megállapodáson alapul. A dokumentum arra is figyelmeztet, hogy ha a Zeiss hosszabb időn keresztül nem tudná fenntartani a termelést, az ASML "gyakorlatilag képtelenné válna üzleti tevékenységének folytatására". Az ASML 2025-ben 4,41 milliárd euró értékben vásárolt a Zeiss SMT-től és leányvállalataitól, szemben a 2024-es 3,95 milliárd euróval és a 2023-as 3,33 milliárd euróval.
Roger Dassen pénzügyi igazgató az ASML júliusi gyorsjelentését követő konferenciahívás során elmondta, hogy a vállalat 2027-re szinte teljes egészében lekötötte a Low-NA EUV rendszerek gyártási kapacitását. Hozzátette, hogy a cég az idei körülbelül 65 berendezéshez képest mintegy 30 százalékkal növeli a termelési kapacitást, és egy újabb, szintén körülbelül 30 százalékos bővítés lehetőségét is vizsgálja 2028-ra. Ugyanezen a napon újságíróknak azt is elmondta, hogy a vállalat a litográfiai berendezések gyártási ciklusát a jelenlegi körülbelül 22 hétről 15-16 hétre kívánja csökkenteni. Az is ismert, hogy az ASML a Low-NA EUV rendszerek árának emelését tervezi, ami a hírek szerint nem nyerte el a TSMC tetszését.
A High-NA vetítőoptikai rendszer több mint 40 000 alkatrészből áll, tömege körülbelül 12 tonna, vagyis térfogata és súlya nagyjából hétszerese a hagyományos EUV optikai rendszerekének. A megvilágító rendszer további 25 000 alkatrészt tartalmaz, tömege pedig 6 tonna. Az egyes High-NA tükrök tömege több száz kilogramm, méretük körülbelül kétszerese, tömegük pedig tízszerese a jelenlegi EUV tükrökének. A Zeiss szerint ezek megmunkálása hónapokig tart, mire elérik az előírt pontosságot. Az ellenőrzésükhöz egy speciálisan erre a célra épített, 5 x 10 méteres vákuumkamrára van szükség, amely több mint 100 000 alkatrészből áll és meghaladja a 150 tonnás tömeget. Az Intel ebben a hónapban elsőként kezdett nagy volumenű logikai chipek szállításába 0,55 NA rendszerű berendezésekkel. Az alapterület növelése önmagában azonban ezeknek a folyamatoknak egyikét sem rövidíti le.
Az ASML 2025 végén 1,91 milliárd euró értékű követelést tartott nyilván a Zeiss SMT részére nyújtott hitelekből, szemben az egy évvel korábbi 1,44 milliárd euróval. Emellett 1,19 milliárd euró előleget fizetett ki annak érdekében, hogy biztosítsa az optikai eszközök jövőbeni szállítását. A felek két, egyenként 1 milliárd eurós hitelkerettel rendelkeznek, amelyeket 2021 szeptemberében, illetve 2024 szeptemberében írtak alá. Az ASML emellett 2025 júliusában további 444 millió eurós hitelt, novemberben pedig egy 212,5 millió eurós rövid lejáratú hitelt biztosított. A vállalat keretmegállapodásának 2025 májusában módosított változata értelmében a beruházási célú hitelek kamatmentessé váltak, visszafizetésük pedig várhatóan hét vagy tizenöt év alatt történik negyedéves részletekben, amelyek összege a Zeiss SMT árbevételétől függően változik.
A Zeiss SMT a 2025. szeptember 30-án zárult pénzügyi évben 5,055 milliárd eurós árbevételt ért el, ami 23 százalékos növekedést jelent, és ezzel a Zeiss Csoport négy üzletágából ez lett a legnagyobb. A vállalat emellett Wetzlarban egy többfunkciós gyárat is épít, tavaly ősszel 300 négyzetméterrel bővítette rossdorfi tisztatéri kapacitását, ebben a hónapban pedig egy új innovációs központot nyitott Dél-Koreában.
A Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology megerősítette, hogy mintegy 25 000 négyzetméternyi új gyártóterülettel és a termelést kiszolgáló létesítménnyel bővíti oberkocheni telephelyét Németországban. A dolgozók ebben a hónapban költöztek be az első elkészült épületbe, négy évvel azután, hogy 2022-ben megkezdődött a beruházás. A fennmaradó épületeket fokozatosan adják át. Oberkochen és Wetzlar azon két hely egyike a világon, ahol elkészülhetnek az ASML litográfiai berendezéseiben használt optikai eszközök, az ASML éves jelentése pedig egyértelműen kimondja, hogy a vállalat által gyártható rendszerek számát jelenleg a Zeiss SMT termelési kapacitása korlátozza. Az ASML a hónap elején arról tájékoztatta befektetőit, hogy 2027-ben nagyjából 30 százalékkal kívánja növelni a Low-NA EUV rendszerek gyártását.
Az ASML 2025-ös éves jelentése szerint a Carl Zeiss SMT a vállalat kizárólagos beszállítója a lencséknek, tükröknek, megvilágító rendszereknek, kollektoroknak és más kulcsfontosságú optikai alkatrészeknek. Az együttműködés kizárólagos megállapodáson alapul. A dokumentum arra is figyelmeztet, hogy ha a Zeiss hosszabb időn keresztül nem tudná fenntartani a termelést, az ASML "gyakorlatilag képtelenné válna üzleti tevékenységének folytatására". Az ASML 2025-ben 4,41 milliárd euró értékben vásárolt a Zeiss SMT-től és leányvállalataitól, szemben a 2024-es 3,95 milliárd euróval és a 2023-as 3,33 milliárd euróval.
Roger Dassen pénzügyi igazgató az ASML júliusi gyorsjelentését követő konferenciahívás során elmondta, hogy a vállalat 2027-re szinte teljes egészében lekötötte a Low-NA EUV rendszerek gyártási kapacitását. Hozzátette, hogy a cég az idei körülbelül 65 berendezéshez képest mintegy 30 százalékkal növeli a termelési kapacitást, és egy újabb, szintén körülbelül 30 százalékos bővítés lehetőségét is vizsgálja 2028-ra. Ugyanezen a napon újságíróknak azt is elmondta, hogy a vállalat a litográfiai berendezések gyártási ciklusát a jelenlegi körülbelül 22 hétről 15-16 hétre kívánja csökkenteni. Az is ismert, hogy az ASML a Low-NA EUV rendszerek árának emelését tervezi, ami a hírek szerint nem nyerte el a TSMC tetszését.
A High-NA vetítőoptikai rendszer több mint 40 000 alkatrészből áll, tömege körülbelül 12 tonna, vagyis térfogata és súlya nagyjából hétszerese a hagyományos EUV optikai rendszerekének. A megvilágító rendszer további 25 000 alkatrészt tartalmaz, tömege pedig 6 tonna. Az egyes High-NA tükrök tömege több száz kilogramm, méretük körülbelül kétszerese, tömegük pedig tízszerese a jelenlegi EUV tükrökének. A Zeiss szerint ezek megmunkálása hónapokig tart, mire elérik az előírt pontosságot. Az ellenőrzésükhöz egy speciálisan erre a célra épített, 5 x 10 méteres vákuumkamrára van szükség, amely több mint 100 000 alkatrészből áll és meghaladja a 150 tonnás tömeget. Az Intel ebben a hónapban elsőként kezdett nagy volumenű logikai chipek szállításába 0,55 NA rendszerű berendezésekkel. Az alapterület növelése önmagában azonban ezeknek a folyamatoknak egyikét sem rövidíti le.
Az ASML 2025 végén 1,91 milliárd euró értékű követelést tartott nyilván a Zeiss SMT részére nyújtott hitelekből, szemben az egy évvel korábbi 1,44 milliárd euróval. Emellett 1,19 milliárd euró előleget fizetett ki annak érdekében, hogy biztosítsa az optikai eszközök jövőbeni szállítását. A felek két, egyenként 1 milliárd eurós hitelkerettel rendelkeznek, amelyeket 2021 szeptemberében, illetve 2024 szeptemberében írtak alá. Az ASML emellett 2025 júliusában további 444 millió eurós hitelt, novemberben pedig egy 212,5 millió eurós rövid lejáratú hitelt biztosított. A vállalat keretmegállapodásának 2025 májusában módosított változata értelmében a beruházási célú hitelek kamatmentessé váltak, visszafizetésük pedig várhatóan hét vagy tizenöt év alatt történik negyedéves részletekben, amelyek összege a Zeiss SMT árbevételétől függően változik.
A Zeiss SMT a 2025. szeptember 30-án zárult pénzügyi évben 5,055 milliárd eurós árbevételt ért el, ami 23 százalékos növekedést jelent, és ezzel a Zeiss Csoport négy üzletágából ez lett a legnagyobb. A vállalat emellett Wetzlarban egy többfunkciós gyárat is épít, tavaly ősszel 300 négyzetméterrel bővítette rossdorfi tisztatéri kapacitását, ebben a hónapban pedig egy új innovációs központot nyitott Dél-Koreában.