SG.hu·
Kína áttörést érhetett el a chipgyártásban, megkezdék a DUV berendezések tömeggyártását
Az új kínai berendezések még messze vannak az ASML csúcstechnológiájától, de segítségükkel az ország chipgyártói bővíthetik saját félvezetőipari kapacitásaikat. Az első DUV litográfiai berendezéseket idén szállíthatják az SMIC, a Hua Hong és a CXMT számára. Idén körülbelül öt gép készülhet el, 2027-ben pedig húsz.
Egy sanghaji állami hátterű vállalat megkezdte a mély ultraibolya (DUV) litográfiai gépek tömeggyártását, és az első berendezéseket várhatóan még idén leszállítják az SMIC, a Hua Hong Semiconductor és a memóriagyártó ChangXin Memory Technologies számára. A gyártási célkitűzés 2026-ban körülbelül öt gép, 2027-ben pedig mintegy húsz berendezés előállítása. Mindhárom megnevezett vállalat szerepel azoknak a kínai cégeknek a listáján, amelyeket egy jelenleg az amerikai kongresszus előtt lévő törvényjavaslat jogszabályi úton eltiltana az ASML értékesítési és szervizszolgáltatásaitól.
A gyártási programot a Shanghai Aishengna Electronic Technology Group vezeti, egy kevéssé ismert kínai állami tulajdonú vállalat, amely a legjelentősebb kínai litográfiai startupok, köztük az állami támogatású Shanghai Yuliangsheng Technology fejlesztőcsapatainak integrálásával hozta létre saját szakembergárdáját. Az SMIC 2025 szeptembere óta tesztel egy Yuliangsheng által fejlesztett merüléses litográfiai berendezést. A merüléses DUV litográfiai gépek a vetítőlencse és a szilíciumlapka között kialakított vékony vízréteget használnak, amely lehetővé teszi a hagyományos száraz rendszereknél kisebb áramköri mintázatok létrehozását. Az új rendszerek legtöbb alkatrésze belföldi gyártásból származik, bár néhány kritikus fontosságú komponens továbbra is Japánból érkezik. A helyi beszállítóknál jelentkező késedelmek azonban idén visszafogták a gyártási mennyiséget.
Az amerikai képviselőház 8170-es számú határozata törvényben korlátozott szereplőként jelöli meg az SMIC-et, a Hua Hongot, a CXMT-t, a Huaweit és a YMTC-t. Ebből az öt vállalatból három a hazai fejlesztésű litográfiai berendezések első vásárlói között szerepel. Az áprilisban benyújtott MATCH Act törvényjavaslatot április 22-én tárgyalásra továbbította a Képviselőház külügyi bizottsága, és a szenátusban is benyújtották az azonos tartalmú S. 4281-es változatot. A törvényjavaslat DUV technológiára vonatkozó rendelkezései nem csupán az új exportokat korlátozzák, hanem a szervizelést és a műszaki támogatást is. Ez azt jelenti, hogy hatálya kiterjedhet a már telepített, kínai gyárakban működő berendezésekre is. Ezeket a gyárakat az elmúlt két évben azzal próbálták tovább működtetni, hogy másodlagos csatornákon keresztül szereztek be frissítéseket és alkatrészeket a meglévő gépparkhoz.
Az Aishengnát 2023 augusztusában alapították 7 milliárd jüan, vagyis mintegy 1 milliárd dollár jegyzett tőkével. A vállalat mögött mindössze két állami tulajdonú részvényes áll: a Shanghai Electric Holding és a Shanghai International Trust egyik leányvállalata - derül ki a vállalati nyilvántartásokból. A cégről nagyon kevés információ ismert. Nincs saját honlapja, és működéséről semmilyen nyilvános tájékoztatást nem adott.
Az ASML várhatóan körülbelül 130 litográfiai rendszert szállít 2026-ban, ami megegyezik a 2025-ös mennyiséggel - mondta Roger Dassen pénzügyi igazgató az elemzőknek a vállalat júliusi eredménybeszámolóján. Dassen hozzátette, hogy az ASML célja "a kapacitás 30 százalékos növelése 2027-ben" a technológia területén, és további 30 százalékos bővítést vizsgál 2028-ra. Kína az ASML idei nettó értékesítésének körülbelül 20 százalékát adja, ami csökkenés a 2025-ös 33 százalékhoz képest. A visszaesést főként a hagyományosabb logikai chipek iránti kereslet változása okozza.
A DUV litográfia egyetlen expozícióval képes 28 nanométeres osztályú struktúrák létrehozására, és többszörös mintázással akár 7 nanométeres gyártási szintet is elérhet. Ennek azonban ára van: a többszörös mintázás növeli az illesztési hibák lehetőségét és ronthatja a kihozatalt. Az ASML vezérigazgatója, Christophe Fouquet elmondta, hogy a DRAM gyártásban növekvő litográfiai intenzitás részben annak köszönhető, hogy a gyártók a többszörös mintázásról az olcsóbb, egyetlen expozíciót alkalmazó EUV technológiára próbálnak áttérni.
Az AI Futures Project nevű szervezet júniusban készült független elemzése szerint a kereskedelmi méretű kínai DUV technológia megjelenése a 2030-as évek közepére várható, miközben az ASML jelenleg a litográfiai piac 98,7 százalékát uralja. Az új kínai gépek gyártósori alkalmazásra történő minősítése várhatóan több hónapot vehet igénybe, és teljesítményükben, valamint gyártási minőségükben továbbra is elmaradnak az ASML berendezéseitől. Kína saját EUV technológiájának fejlesztése, amelyről a Reuters számolt be úgy, hogy decemberben már működő prototípust mutattak be, továbbra is évekre van a gyakorlati alkalmazástól.
Az elemzők szerint a hír várhatóan nem lesz jelentős hatással az ASML pénzügyi eredményeire. "Néhány merüléses DUV litográfiai berendezés legyártása nem ugyanaz, mint olyan gépek előállítása, amelyek nagy volumenű termelésben is használhatók. Ott ugyanis a kihozatal, a rétegek pontos illesztése, az áteresztőképesség és a több ezer szilíciumlapka feldolgozása során biztosított megbízhatóság az igazán fontos" - írták elemzésükben a JP Morgan Chase szakértői.
Egy sanghaji állami hátterű vállalat megkezdte a mély ultraibolya (DUV) litográfiai gépek tömeggyártását, és az első berendezéseket várhatóan még idén leszállítják az SMIC, a Hua Hong Semiconductor és a memóriagyártó ChangXin Memory Technologies számára. A gyártási célkitűzés 2026-ban körülbelül öt gép, 2027-ben pedig mintegy húsz berendezés előállítása. Mindhárom megnevezett vállalat szerepel azoknak a kínai cégeknek a listáján, amelyeket egy jelenleg az amerikai kongresszus előtt lévő törvényjavaslat jogszabályi úton eltiltana az ASML értékesítési és szervizszolgáltatásaitól.
A gyártási programot a Shanghai Aishengna Electronic Technology Group vezeti, egy kevéssé ismert kínai állami tulajdonú vállalat, amely a legjelentősebb kínai litográfiai startupok, köztük az állami támogatású Shanghai Yuliangsheng Technology fejlesztőcsapatainak integrálásával hozta létre saját szakembergárdáját. Az SMIC 2025 szeptembere óta tesztel egy Yuliangsheng által fejlesztett merüléses litográfiai berendezést. A merüléses DUV litográfiai gépek a vetítőlencse és a szilíciumlapka között kialakított vékony vízréteget használnak, amely lehetővé teszi a hagyományos száraz rendszereknél kisebb áramköri mintázatok létrehozását. Az új rendszerek legtöbb alkatrésze belföldi gyártásból származik, bár néhány kritikus fontosságú komponens továbbra is Japánból érkezik. A helyi beszállítóknál jelentkező késedelmek azonban idén visszafogták a gyártási mennyiséget.
Az amerikai képviselőház 8170-es számú határozata törvényben korlátozott szereplőként jelöli meg az SMIC-et, a Hua Hongot, a CXMT-t, a Huaweit és a YMTC-t. Ebből az öt vállalatból három a hazai fejlesztésű litográfiai berendezések első vásárlói között szerepel. Az áprilisban benyújtott MATCH Act törvényjavaslatot április 22-én tárgyalásra továbbította a Képviselőház külügyi bizottsága, és a szenátusban is benyújtották az azonos tartalmú S. 4281-es változatot. A törvényjavaslat DUV technológiára vonatkozó rendelkezései nem csupán az új exportokat korlátozzák, hanem a szervizelést és a műszaki támogatást is. Ez azt jelenti, hogy hatálya kiterjedhet a már telepített, kínai gyárakban működő berendezésekre is. Ezeket a gyárakat az elmúlt két évben azzal próbálták tovább működtetni, hogy másodlagos csatornákon keresztül szereztek be frissítéseket és alkatrészeket a meglévő gépparkhoz.
Az Aishengnát 2023 augusztusában alapították 7 milliárd jüan, vagyis mintegy 1 milliárd dollár jegyzett tőkével. A vállalat mögött mindössze két állami tulajdonú részvényes áll: a Shanghai Electric Holding és a Shanghai International Trust egyik leányvállalata - derül ki a vállalati nyilvántartásokból. A cégről nagyon kevés információ ismert. Nincs saját honlapja, és működéséről semmilyen nyilvános tájékoztatást nem adott.
Az ASML várhatóan körülbelül 130 litográfiai rendszert szállít 2026-ban, ami megegyezik a 2025-ös mennyiséggel - mondta Roger Dassen pénzügyi igazgató az elemzőknek a vállalat júliusi eredménybeszámolóján. Dassen hozzátette, hogy az ASML célja "a kapacitás 30 százalékos növelése 2027-ben" a technológia területén, és további 30 százalékos bővítést vizsgál 2028-ra. Kína az ASML idei nettó értékesítésének körülbelül 20 százalékát adja, ami csökkenés a 2025-ös 33 százalékhoz képest. A visszaesést főként a hagyományosabb logikai chipek iránti kereslet változása okozza.
A DUV litográfia egyetlen expozícióval képes 28 nanométeres osztályú struktúrák létrehozására, és többszörös mintázással akár 7 nanométeres gyártási szintet is elérhet. Ennek azonban ára van: a többszörös mintázás növeli az illesztési hibák lehetőségét és ronthatja a kihozatalt. Az ASML vezérigazgatója, Christophe Fouquet elmondta, hogy a DRAM gyártásban növekvő litográfiai intenzitás részben annak köszönhető, hogy a gyártók a többszörös mintázásról az olcsóbb, egyetlen expozíciót alkalmazó EUV technológiára próbálnak áttérni.
Az AI Futures Project nevű szervezet júniusban készült független elemzése szerint a kereskedelmi méretű kínai DUV technológia megjelenése a 2030-as évek közepére várható, miközben az ASML jelenleg a litográfiai piac 98,7 százalékát uralja. Az új kínai gépek gyártósori alkalmazásra történő minősítése várhatóan több hónapot vehet igénybe, és teljesítményükben, valamint gyártási minőségükben továbbra is elmaradnak az ASML berendezéseitől. Kína saját EUV technológiájának fejlesztése, amelyről a Reuters számolt be úgy, hogy decemberben már működő prototípust mutattak be, továbbra is évekre van a gyakorlati alkalmazástól.
Az elemzők szerint a hír várhatóan nem lesz jelentős hatással az ASML pénzügyi eredményeire. "Néhány merüléses DUV litográfiai berendezés legyártása nem ugyanaz, mint olyan gépek előállítása, amelyek nagy volumenű termelésben is használhatók. Ott ugyanis a kihozatal, a rétegek pontos illesztése, az áteresztőképesség és a több ezer szilíciumlapka feldolgozása során biztosított megbízhatóság az igazán fontos" - írták elemzésükben a JP Morgan Chase szakértői.