Intel: tizedére csökkenthető a chipek fogyasztása

Az IBM a maga teruleten a legtobb szabadalommal rendelkezo ceg. Nyilvanvaloan sok kutatas zsakutcaba jut, vagy tulhaladotta valik mire ipari alkalmazasba kerulhetne, de bizony ma is nap mint nap hasznalsz olyan technologiakat, amiket ok fejlesztettek ki. Azt persze nem art eszben tartani, hogy az elso felroppeno hirek kozott es akozott, hogy te ezt a dolgot az asztalodon lasd lehet el kell telnie par evnek.

Mondanál egy példát?

nem, olvastam azt, de még soha sem láttam olyat hogy bármelyik ilyen hatalmas dolog forgalomba került volna, ezért még mindig kamunak tûnik.

A szilícium alapú félvezetõgyártás még mindig a legolcsóbb technológia, így csak akkor váltanak másra, ha már elkerülhetetlen. Ezen belül azonban jópár újítás történt az elmúlt években (de itt is csak akkor vezetnek be újításokat, ha feltétlenül muszály), mivel azok is drágítanak. Ilyen volt pl. az un. feszített szilícium, vagy pl. mostanában a HKMG (High-K + Metal Gates), vagy ennek átmeneti alternatívájaként (ill. késõbb együtt is alkalmazni lehet a kettõt) az immersion litographyt, a csíkszélesség csökkentése érdekében. És még csak most jönnek majd a több félvezetõréteget tartalmazó chipek. De ha elérnek a szilícium határaiig, majd elõszedik a korábbi egyéb lehetséges technológiákat. És addig is folynak a kutatások.

Mint nemrég írtam neked hasonló kijelentésedre, az IBM olyan alapvetõ kutatásokkal is foglalkozik (pl. az Intelhez hasonlóan, de õket is megelõzve), amik csak évekkel késõbb jelennek meg piaci termék formájában. Vagy az IBM-nél, vagy akár más, kisebb cégeknél, akiknek nem lenne pénze az adott kutatásra, így licencelik a technológiát az IBM-tõl.

ps. csak nem te is olyan leszel, aki behány valamit topikokba, aztán a továbbiakban nagy ívben tojik rá...?

Ja, kb ezért írtam a #2-est, mert az ibm is folyamatosan hatlmas fejlesztéseket, egetrengetõ világmegváltoztató ötleteket hangoztat, és valahogy soha nem lesz belõlük semmi.

Sajnos már annyi ötletbõl nem lett semmi, hogy már már gyanúsan lassan fejlõdnek a processzorok mondjuk 10 évvel ezelõtthöz képest.

-egyenként (ma valahogy nem megy az írás 😛)

Arra nem akarnak, mert nem megoldott a tömeggyártása és az áramkörkiképzés. Inkább a grafén van megcélozva, ami az elõbbi fel nem göngyölt alakja, azaz atomi vékonységú szén-lap. Ezt már könnyebb gyártani, azonban az áramkörkiképzés itt is nehézkes, ugyanis egyenként más anyagok atomjaiból kell kiképezni azt.

szerintem térjenek át szén-nanocsövekre

Mint a belinkelt bejegyzés is írja, a p-csatornás MOSFET-ek sebességét sikerült növelni, mert eddig ezekkel volt gond a szilíciumnál lényegesen lassúbb lyukvezetés miatt. Az n-csatornás eszközök eddig is igen gyorsak voltak. Márpedig gyors p-csatornás eszközök nélkül nem lehet gyors CMOS eszközöket sem építeni.

Az sem lényegtelen, hogy az új eszközt szilícium szubsztráton alakítják ki, hiszen a galliumból nem lehet stabil szubsztrátot létrehozni.

A hir erdekes, csak erteni kell mirol van szo. Az intel itt aluminium vagy gallium alapu felvezetokrol beszel. Aluminium alaput meg nem nagyon lattunk, de gallium arzenid alapubol mar volt jopar, foleg az ibm fejleszteseben meg a 60-as evekben. Valoszinuleg rajottek, hogy ha sokkal kisebb kapufeszultsegu felvezetoket hasznalnak, akkor kisebb feszultsegen is elmegy egy chip, ami miatt kevesbe fog melegedni es gyorsabban tud mukodni. Nem veletlen, hogy kisenergiaju radios detektor diodanak a mai napik GaAs felvezetoket szokas hasznalni.

alacsonyabb alaphõmérséklet = komolyabb túlhúzás = villanyfûtést mindenkinek!
<#nyes>

Ez kb olyan hír, mint "az ibm megcsinálta a 675 ghz-s 5343 magos processzort, ami 1 ghz-n 1 maggal gyorsabb mint 62 nehalem".

alacsonyabb alaphõmérséklet = komolyabb túlhúzás 😊